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美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

一边是荷兰政府突然宣布:扩大对华深紫外光刻机(DUV)出口管制,连原本能卖的NXT:1980Di都进了黑名单;另一边是美国商务部同步收紧规则,连设备维修、备件供应都开始设卡。ASML高层更是直接开炮:“中国想短时间赶上我们?不可能!这都是逆向工程,没真正创新!”

一边是荷兰政府突然宣布:扩大对华深紫外光刻机(DUV)出口管制,连原本能卖的NXT:1980Di都进了黑名单;另一边是美国商务部同步收紧规则,连设备维修、备件供应都开始设卡。ASML高层更是直接开炮:“中国想短时间赶上我们?不可能!这都是逆向工程,没真正创新!”

美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

听着是不是特别耳熟?这不就是当年说“中国造不出大飞机”“高铁全是抄袭”的翻版话术吗?可他们忘了,中国人最不怕的,就是被人说“你不行”。

就在他们集体唱衰的第二天——9月9日,中国工信部甩出一份《首台(套)重大技术装备推广目录》,里面清清楚楚写着:国产氟化氩光刻机,波长193纳米,分辨率≤65纳米,套刻精度≤8纳米。这参数意味着什么?它能支撑28纳米及以上成熟制程的稳定生产,而28纳米,正是汽车芯片、电源管理、物联网设备的“工业血液”。

美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

这不是PPT,不是“即将发布”,而是国家背书、正式推广的量产装备。什么叫“你嘲我笑,我亮成绩单”?这就是!

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很多人以为中国光刻机是这两年才发力的,其实不然。早在2002年,上海微电子(SMEE)就成立了。那时候,我们连一台完整设备都造不出来,工程师们只能靠拆修进口机来“偷师”。有人说这是“山寨”,但你见过哪个“山寨”能从90纳米干到65纳米,再到2022年28纳米样机测试成功?这背后是两万多个日夜的技术积累,是几代工程师的青春。

美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

美国怕就怕这个。从2023年开始,他们逼着荷兰禁售高端DUV,2024年连维修服务都切断,企图让中国的光刻机“病了没药治”。可结果呢?中芯国际直接祭出“多重曝光”技术,用深紫外光刻机硬生生干出了5纳米芯片,还用在了华为最新旗舰上。台湾媒体都惊了:这哪是“落后10年”?这是另辟蹊径,走出了自己的路!

更关键的是,中国没只盯着光刻机这一台设备。我们建的是一整条自主产业链:长春光机所的光学镜头、北京科益的光源、南大光电的光刻胶、华卓精科的双工件台……以前这些全是“卡脖子”环节,现在一个个被攻破。2025年,国产光刻胶实现量产,镜片自给率超70%,连ASML都慌了,赶紧在北京设维修点——不是他们想合作,是他们怕彻底丢掉中国市场。

美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

你说我们技术不行?可中芯国际5纳米都量产了;你说我们没创新?可我们走出了不依赖EUV的中国路径。美国智库算盘打得响:封锁十年,中国就废了。但他们忘了,中国有全球最大的半导体需求市场,有最卷的工程师,有最坚定的“国产替代”决心。

现在回头看,美荷那波舆论战,像不像“此地无银三百两”?他们越急,越说明——我们打到七寸了。

美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

这不只是芯片之争,更是未来十年科技主导权的争夺。你的手机、汽车、家电,甚至未来的人工智能,全都离不开这台小小的光刻机。它不再只是实验室里的高精尖,而是关乎每个人生活稳定、国家尊严的“战略武器”。

美荷两国曾同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评

所以,别再信那些“中国光刻机不行”的论调了。真正的技术,从来不是吹出来的,是一微米一纳米“刻”出来的,是几万工程师拿命拼出来的。

这场仗,我们没输,反而越战越强。

你觉得,中国能不能彻底打破“芯”枷锁?评论区聊聊,你的手机,还怕“缺芯”吗?

本文来自网络,不代表大火龙新闻网立场,转载请注明出处:/62284.html

作者: wczz1314

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